提到光刻機，想必首先想到的就是來自荷蘭的高端芯片光刻機，至于光刻機的工作原理，與沖洗照片十分類似。需要通過光刻機的紫外線，然后去除晶圓體表面的保護膜，然后將此前設計好的精密線路，再通過紫外線刻在晶圓體之上?？墒沁@件事卻屬于聽起來容易辦起來難，因為光刻機性能的不同，所以導致芯片的納米等級也不同。
目前全球光刻機制造的芯片，可以分為5至7納米、7至28納米、28至65納米、65至90納米等級別。而且隨著全球科技不斷發(fā)展，芯片對于各個國家有著十分重要的作用。因為無論是航天領(lǐng)域、民航客機，還是汽車、手機等領(lǐng)域，對于芯片的需求量一直比較大。那么為何全球擁有數(shù)十個發(fā)達國家，只有荷蘭能制造高端光刻機，連美國都只能“心甘情愿”充當輔助和配角？說到光刻機最初的發(fā)展，還追溯到上個世紀60至70年代左右。當時美國研發(fā)的光刻機，可是全球頂尖存在。當然這和當時的光刻機工作原理比較簡單，也有一定的關(guān)系。
那個時候的光刻機，就是通過光把電路圖掩膜，涂刷在光敏膠的晶圓體之上，當時的晶圓體大小為一英寸左右。到了80年代之后，日本半導體產(chǎn)業(yè)在美國扶持下，也開始走向“巔峰”，甚至從最初需要美國幫助，直接成為超越后者，在半導體產(chǎn)業(yè)出口量領(lǐng)先全球。到了1984年，荷蘭光刻廠成立之后，由于美日在半導體領(lǐng)域的地位無人能撼動，所以當時的阿斯麥公司不過是以接收一些小訂單為主。到了1997年，美國半導體巨頭英特爾與美國能源部組建EUV前沿技術(shù)組織，因此讓摩托羅拉、AMD脫穎而出。
隨后阿斯麥及時抓住機遇，成功在美國建廠?？墒菫榱说玫矫绹某姓J，阿斯麥研發(fā)的產(chǎn)品中必須有55%的原材料，是從美國供貨商手中拿貨。此后阿斯麥便在光刻機領(lǐng)域迅速崛起，并且隨著時間的沉淀，在高端光刻機領(lǐng)域已經(jīng)做到了無人可及。
這就導致如今阿斯麥研發(fā)的光刻機，重量達到180噸，售價更是高達1.2億美元左右。除此之外，即便購買到阿斯麥研發(fā)的EUV光刻機，但是還需要該公司專業(yè)人員對設備進行調(diào)試，時間長達一年。當然在阿斯麥研發(fā)的光刻機中，美國光源占據(jù)27%、荷蘭與英國占據(jù)32%、日本與德國也占據(jù)一定的比例。不難看出，美國在光刻機領(lǐng)域，早已無法與阿斯麥相提并論，因此只能選擇在幕后“打輔助”。這與美國制造業(yè)衰退，有著密切關(guān)聯(lián)。
（文/華強）
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